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產(chǎn)品展示-
- Shimadzu衍射光柵
Shimadzu衍射光柵 光柵槽是通過全息曝光方法形成的，其中應用了雙激光束干涉技術(shù)。這種全息方法降低了機械刻劃光柵中常見的刻槽周期誤差，保證了低雜散光光柵的制作。
- 型號：
- 更新日期：2023-12-21 ￥面議
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- Edmund新品光柵
Edmund新品光柵 與刻線式光柵相比，Richardson Gratings™ 高精度反射式全息衍射光柵的光散射更低，使其成為對拉曼光譜儀等雜散光敏感的應用的理想選擇。通過暴露于強激光干涉圖樣，光柵被記錄在光刻膠中，然后用化學方法顯影以顯示具有正弦橫截面的條紋圖樣。可提供從 UV 到 NIR 光譜區(qū)域使用的光柵。
- 型號：
- 更新日期：2024-04-15 ￥面議
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- 相位掩模版（光柵）
相位掩模版（光柵）用于制造光纖布拉格光柵，它是控制高性能光學網(wǎng)絡中波長選擇性和色散補償?shù)年P鍵組件。相位掩膜板具有廣泛的應用，但是比較常見的是，PMT相位掩膜板（光柵）用于記錄其他光柵，例如集成光學設備中的平面波導光柵和光纖布拉格光柵（FBG）。FBG是位于光纖芯中的光頻率濾波器。
- 型號：
- 更新日期：2023-12-21 ￥面議
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- 平面全息光柵
平面全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過程用于復制。
- 型號：
- 更新日期：2023-12-20 ￥面議
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- 透射光柵2
透射光柵2光路設計簡單，對于使用固定式光柵的應用，優(yōu)勢明顯，比如光譜儀。入射光束在光柵背面以固定角度發(fā)生色散。對一些類型的光柵準直誤差不敏感。為了獲得高衍射效率，刻線密度不高。衍射角會隨刻線密度的增加而增大，基底材料的折射率限制了長波的透射率，從而導致性能降低。光柵的色散特性使其適用于使用小型探測器陣列的緊湊系統(tǒng)。這種光柵對于偏振也不敏感。
- 型號：
- 更新日期：2023-12-20 ￥面議
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- ZEISS 凹面衍射光柵
ZEISS 凹面衍射光柵將色散和成像性質(zhì)合并到單一光學組件上，以集成到光譜系統(tǒng)中。這些凹面光柵采用全息方式生產(chǎn)，同時優(yōu)化了焦平面，并大限度減少了光柵波長范圍內(nèi)的像差。本產(chǎn)品的設計目的是提高光柵效率并大限度減少雜散光，從而提高光譜分辨率和分光儀的信噪比。我們提供具有羅蘭圓或多色器安裝配置的衍射光柵。
- 型號：
- 更新日期：2023-12-20 ￥面議
